IPC G03F7/00 專利列表
共 134 筆結果
連續製造雷射全像膜之膜保護裝置
希望有限公司
案號 0921323882003-11-19IPC G03F7/00
改良軌跡計劃及執行之方法，系統，及電腦程式產品
艾斯摩控股股份有限公司
案號 0921323272003-11-18IPC G03F7/00
利用水溶性負型光阻形成光阻圖案的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921323432003-11-18IPC G03F7/004
使用超高耐熱正型感光性組成物之圖案形成方法
ＡＺ電子材料股份有限公司
案號 0921321422003-11-17IPC G03F7/004
光阻用高分子化合物及光阻用樹脂組成物
泰舍爾化學工業股份有限公司
案號 0921306152003-11-03IPC G03F7/004
放射線敏感性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921294072003-10-23IPC G03F7/004
著色感光性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921292282003-10-22IPC G03F7/004
化學放大型正光阻組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921290872003-10-21IPC G03F7/004
著色感光性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921288092003-10-17IPC G03F7/004
於二氧化碳溶劑中之正調微影術
米希爾科技公司
案號 0921282892003-10-13IPC G03F7/004
感光性樹脂組成物、使用其之感光元件、光阻圖型之形成方法及印刷電路板
日立化成工業股份有限公司
案號 0921279722003-10-08IPC G03F7/004
控制溶解度之光敏感性樹脂組合物及使用彼等之雙層結構之圖樣形成方法
三星顯示器有限公司
案號 0921274292003-10-03IPC G03F7/004
光阻去除劑組成
東進瑟彌侃股份有限公司
案號 0921271242003-09-30IPC G03F7/00
含三化合物之抗反射組成物
布魯爾科技公司
案號 0921268082003-09-29IPC G03F7/00
正型鹼性水溶液顯影之感光型聚醯亞胺／黏土奈米複合材料組成物及其製備方法
財團法人工業技術研究院
案號 0921267512003-09-26IPC G03F7/004
放射線感應性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921258752003-09-19IPC G03F7/004
自一半導體基材堆疊體中移除一影像層之方法
亞契專業化學公司
案號 0921259582003-09-19IPC G03F7/004
電子射線照射裝置、電子射線照射方法、碟片狀體之製造裝置及碟片狀體之製造方法
ＴＤＫ股份有限公司
案號 0921257632003-09-18IPC G03F7/00
電子射線照射裝置，電子射線照射方法，碟片狀體之製造裝置及碟片狀體之製造方法
ＴＤＫ股份有限公司
案號 0921257662003-09-18IPC G03F7/00
化學放大型正光阻組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921249722003-09-10IPC G03F7/004