IPC G03F7/00 專利列表
共 134 筆結果
短波長成像用之光阻組成物
希普列公司
案號 0911379612002-12-31IPC G03F7/004
具有馬來醯亞胺基之化合物，含其之樹脂組成物及其硬化物
日本化藥股份有限公司
案號 0911377272002-12-27IPC G03F7/004
製造液晶顯示元件用正型光阻組成物及光阻圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0911371762002-12-24IPC G03F7/008
正型光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0911370322002-12-23IPC G03F7/008
直寫式奈米微影印刷之固態特徵圖樣化
美國西北大學
案號 0911364222002-12-17IPC G03F7/00
著色感光性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0911356422002-12-10IPC G03F7/004
雙醯亞胺化合物，使用該醯亞胺化合物之酸產生劑，抗蝕組成物，以及使用該組成物之圖案形成方法
和光純藥工業股份有限公司
案號 0911347262002-11-29IPC G03F7/004
鹽及其用途
住友化學工業股份有限公司
案號 0911347222002-11-29IPC G03F7/004
新穎的酯類化合物
信越化學工業股份有限公司
案號 0911340972002-11-22IPC G03F7/004
感光性樹脂組成物、使用其之感光性膜及積層體
鐘淵化學工業股份有限公司
案號 0911320352002-10-29IPC G03F7/004
化學放大型正型抗蝕組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0921359842002-05-29IPC G03F7/004
降低圖案化光阻層之表面缺陷的酸性水溶液
東京應化工業股份有限公司
案號 0921069662001-02-02IPC G03F7/00
用於負型作用光阻組成物之樹脂化合物
東京應化工業股份有限公司
案號 0931001461999-11-08IPC G03F7/004
適用於短波長曝光之光阻組成物以及光阻圖案形成方法（二）
富士通股份有限公司
案號 0921266821998-04-22IPC G03F7/004