IPC G03F7/11 專利列表
共 10 筆結果
含丙烯酸系聚合物之微影用形成填隙之組成物
日產化學工業股份有限公司
案號 0931043322004-02-20IPC G03F7/11
形成鹼溶解型微影用填縫料組成物
日產化學工業股份有限公司
案號 0921371242003-12-26IPC G03F7/11
增強化學型聚矽氧系正型光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0921339012003-12-02IPC G03F7/11
可形成微影用防反射膜之組成物
日產化學工業股份有限公司
案號 0921281742003-10-09IPC G03F7/11
衍生於具有多個環氧部份之小型芯分子的底部抗反射塗覆物
布魯爾科技公司
案號 0921279242003-10-08IPC G03F7/11
形成防反射膜之組成物
日產化學工業股份有限公司
案號 0921194412003-07-16IPC G03F7/11
顯像缺陷防止方法及其所用組成物
默克專利有限公司
案號 0921166112003-06-19IPC G03F7/11
形成反射防止膜之組成物
日產化學工業股份有限公司
案號 0921033272003-02-18IPC G03F7/11
光阻圖型之形成方法及光阻層合體
東京應化工業股份有限公司
案號 0911349472002-12-02IPC G03F7/11
正型光可成像之底部抗反射塗層
克來里恩國際公司
案號 0911340762002-11-22IPC G03F7/11