IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
應用基材之平面外變形的放大校正
分子壓模公司
案號 0921352212003-12-12IPC G03F7/20
識別碼之雷射標記方法及裝置
東麗工程股份有限公司
案號 0921351792003-12-12IPC G03F7/20
用於雙層影像系統之穩定非光敏性聚醯亞胺前驅物組成物
亞契專業化學公司
案號 0921350712003-12-11IPC G03F7/20
曝光方法、曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348012003-12-10IPC G03F7/20
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348052003-12-10IPC G03F7/20
曝光裝置及方法
佳能股份有限公司
案號 0921348942003-12-10IPC G03F7/20
微影投影裝置及半導體元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921348832003-12-10IPC G03F7/20
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921347942003-12-10IPC G03F7/20
帶狀工件的曝光裝置及光罩與工件台的平行設定方法
牛尾電機股份有限公司
案號 0921342092003-12-04IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921333912003-11-27IPC G03F7/20
於折反射微影系統中維持未迴轉（非鏡射）影像的分光器光學件設計
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921334082003-11-27IPC G03F7/20
微影裝置製造方法及電腦可讀取媒體
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921331752003-11-26IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921331742003-11-26IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921331572003-11-26IPC G03F7/20
微影設備及積體電路裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921330522003-11-25IPC G03F7/20
曝光裝置之製造方法，光源單元、曝光裝置、曝光方法以及曝光裝置的調整方法
尼康股份有限公司
案號 0921328692003-11-24IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921327342003-11-21IPC G03F7/20
具有複數個抑制網之微影投射裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921327352003-11-21IPC G03F7/20
ＥＵＶ曝光方法、ＥＵＶ曝光裝置及曝光基板
尼康股份有限公司
案號 0921323592003-11-19IPC G03F7/20
微影裝置及器件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921321342003-11-17IPC G03F7/20