IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
於微影工具中將光源氣體與主室氣體隔離之方法與設備
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921321612003-11-17IPC G03F7/20
製造一光學元件之方法，微影裝置及半導體元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921321402003-11-17IPC G03F7/20
增加光罩解析度的方法
中華凸版電子股份有限公司
案號 0921320492003-11-14IPC G03F7/20
元件製造方法及該方法製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921316742003-11-12IPC G03F7/20
夾合系統及用於調整基材形狀的方法
分子壓模公司
案號 0921317192003-11-12IPC G03F7/20
用以實行以模型為基礎之佈局轉換以與雙極照明一起使用之方法及裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921316682003-11-12IPC G03F7/20
微影裝置及元件之製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921315222003-11-11IPC G03F7/20
微影裝置及半導體裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921315262003-11-11IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921315272003-11-11IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921315202003-11-11IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921313982003-11-10IPC G03F7/20
投影光學系統及曝光裝置
佳能股份有限公司
案號 0921311102003-11-06IPC G03F7/20
改善相位移光罩造成線寬不一致的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921310072003-11-05IPC G03F7/20
具有微影光阻檢測圖案之光罩及其檢測方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921307742003-11-04IPC G03F7/20
檢驗方法及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921305282003-10-31IPC G03F7/20
將圖案投影到一塗佈有光敏光阻的基材上之裝置及用來清洗在投影儀中的光學透鏡之方法
英飛凌科技股份有限公司
案號 0921305972003-10-31IPC G03F7/20
測試型樣，檢驗方法及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921305162003-10-31IPC G03F7/20
曝光方法以及其裝置
瀚宇彩晶股份有限公司
案號 0921301202003-10-29IPC G03F7/20
微影裝置及測定光束大小及發散之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921299252003-10-28IPC G03F7/20
偵測遮罩缺陷之方法、電腦程式及參考基板
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921297542003-10-27IPC G03F7/20