IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
使用磁力的可移除的光罩窗口和支撐架
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0931004612004-01-08IPC G03F7/20
具有可變快門的曝光機台及其曝光方法
力晶積成電子製造股份有限公司
案號 0931004112004-01-08IPC G03F7/20
微影投射裝置之圖案化元件及其製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931003462004-01-07IPC G03F7/20
荷電粒子曝光方法，使用於彼之互補分割光罩，及使用該方法製造的半導體裝置
立普路股份有限公司
案號 0921377032003-12-31IPC G03F7/20
遮罩及其使用方法
茂德科技股份有限公司
案號 0921375312003-12-30IPC G03F7/20
投影曝光用罩，投影曝光裝置及投影曝光方法
佳能股份有限公司
案號 0921375022003-12-30IPC G03F7/20
光罩處理器及使用此光罩處理器來處理光罩之方法
中芯國際集成電路製造（上海）有限公司
案號 0921373342003-12-29IPC G03F7/20
測量照明系統表現之方法
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0921371492003-12-26IPC G03F7/20
反射型投影光學系統、曝光設備及裝置製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921368932003-12-25IPC G03F7/20
微影參數回饋系統及控制方法
茂德科技股份有限公司
案號 0921368132003-12-25IPC G03F7/20
具可擴張片層之污染屏障
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921364062003-12-22IPC G03F7/20
微影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921364082003-12-22IPC G03F7/20
微影裝置，元件製造方法及基板架
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921361532003-12-19IPC G03F7/20
裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921361622003-12-19IPC G03F7/20
微影裝置，元件製造方法及依此製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921361592003-12-19IPC G03F7/20
光罩容器，輸送容納於該容器內之微影光罩之方法，及掃描在一容器內之光罩之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921359932003-12-18IPC G03F7/20
具有碎屑抑制構件之微影裝置及製造元件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921359962003-12-18IPC G03F7/20
微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921357502003-12-17IPC G03F7/20
採用具有碳層之透射遮罩以在晶圓上圖樣化光阻之方法
恩智浦美國公司
案號 0921357982003-12-17IPC G03F7/20
微影裝置，元件製造方法，及其所製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921353982003-12-15IPC G03F7/20