IPC G03F9/00 專利列表
共 36 筆結果
投影曝光裝置
亞多特克工程股份有限公司
案號 0921121042003-05-02IPC G03F9/00
減少透鏡像差與圖案移位之光罩與方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921120092003-05-01IPC G03F9/00
微影裝置，裝置之製造方法及藉此製成之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921093682003-04-22IPC G03F9/00
依據場位置來改變在照射裝置內之光角度分佈以改良在微影成像裝置內之線寬度控制之系統及方法
艾斯摩美國股份有限公司
案號 0921089662003-04-17IPC G03F9/00
裝置製造方法，其所製造之裝置及電腦程式
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921082392003-04-10IPC G03F9/00
光罩、聚焦監視方法、曝光量監視方法及半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921066342003-03-25IPC G03F9/00
用以分解半導體裝置圖樣為用於無鉻相位微影之相位及鉻區域之方法和裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921066202003-03-25IPC G03F9/00
用以改善相偏移光罩成像效能和相關方法之裝置和系統
艾斯摩控股股份有限公司
案號 0921045832003-03-04IPC G03F9/00
平台對齊設備及其控制方法、曝光設備、及半導體裝置製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921038012003-02-24IPC G03F9/00
微影裝置、對齊方法及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921029782003-02-13IPC G03F9/00
微影裝置及組件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921022022003-01-30IPC G03F9/00
輻射圖樣工具及用以構成輻射圖樣工具之方法
美光科技公司
案號 0921022102003-01-30IPC G03F9/00
像形成狀態調整系統、曝光方法及曝光裝置、以及資訊記錄媒體
尼康股份有限公司
案號 0921019812003-01-29IPC G03F9/00
光罩圖案補正裝置及光罩圖案補正方法
新力股份有限公司
案號 0911358312002-12-11IPC G03F9/00
光學放大調整系統及投射曝光裝置
亞多特克工程股份有限公司
案號 0911322852002-10-31IPC G03F9/00
半導體積體電路裝置之製造方法及光罩之製造方法
日立製作所股份有限公司
案號 0931015592001-10-16IPC G03F9/00