IPC G03F9/00 專利列表
共 36 筆結果
應用於微影系統之通光孔板圖案
南亞科技股份有限公司
案號 0931072722004-03-18IPC G03F9/00
微影裝置及製造元件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931054242004-03-02IPC G03F9/00
光罩微塵清除器及光罩微塵清除程序
力晶半導體股份有限公司
案號 0931021072004-01-30IPC G03F9/00
微影投影遮罩，使用微影投影遮罩之元件製造方法及其所製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921359912003-12-18IPC G03F9/00
曝光裝置
亞多特克工程股份有限公司
案號 0921306932003-11-03IPC G03F9/00
微影製程中交替相移式光罩之偵測相位／振幅誤差的方法及系統
萬國商業機器公司
案號 0921298162003-10-27IPC G03F9/00
半色調相移罩幕毛坯之製程
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921293242003-10-22IPC G03F9/00
光學接近修正方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921279942003-10-08IPC G03F9/00
產生光罩之方法及電腦程式產品及所產生之光罩，器件製造方法及所製造之器件及印刷圖案之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921250462003-09-10IPC G03F9/00
減光式相位移光罩及其製作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921231212003-08-22IPC G03F9/00
基座，微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921229082003-08-20IPC G03F9/00
用於壓印微影術之散射測量對準方法
分子壓模公司
案號 0921209932003-07-31IPC G03F9/00
修補衰減式相位移光罩的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921203422003-07-25IPC G03F9/00
檢查光罩對位準確度之方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921201142003-07-23IPC G03F9/00
光學接近修正方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921201442003-07-23IPC G03F9/00
疊合標記之結構以及其形成方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921172322003-06-25IPC G03F9/00
形成邊緣相移光罩之方法及使用邊緣相移光罩以形成半導體裝置
恩智浦美國公司
案號 0921151042003-06-03IPC G03F9/00
密接型曝光裝置
亞多特克工程股份有限公司
案號 0921146662003-05-30IPC G03F9/00
圖案尺寸校正裝置、圖案尺寸校正方法及光罩
富士通半導體股份有限公司
案號 0921142032003-05-26IPC G03F9/00
形成無側葉現象之光阻層的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921123692003-05-06IPC G03F9/00