IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
利用多重犧牲層擴張流體腔的製作方法
明基電通股份有限公司
案號 0931011522004-01-16IPC H01L21/027
於半導體晶粒中對密集包裝金屬段作出圖案的方法與相關的結構
新港費柏有限責任公司
案號 0931009282004-01-14IPC H01L21/027
一種微感測片之支撐結構及其成型方法
國立中央大學
案號 0931008542004-01-13IPC H01L21/027
改變阻劑圖案臨界尺寸之方法及系統
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0931000432004-01-02IPC H01L21/027
半導體元件的校準圖樣形成方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921375352003-12-30IPC H01L21/027
非連續曝光方法製作奈米電子元件
財團法人工業技術研究院
案號 0921371912003-12-26IPC H01L21/027
基板處理方法及基板處理裝置
斯克林集團公司
案號 0921366982003-12-24IPC H01L21/027
保護對準記號的方法和結構
世界先進積體電路股份有限公司
案號 0921365152003-12-23IPC H01L21/027
應用於微影製程的結構及半導體元件的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921364902003-12-23IPC H01L21/027
雙層光阻乾式顯影用之方法及設備
東京威力科創股份有限公司
案號 0921365402003-12-23IPC H01L21/027
光罩、使用該光罩之圖案形成方法及光罩資料制作方法
松下電器產業股份有限公司
案號 0921364182003-12-22IPC H01L21/027
轉移光罩圖形之方法與裝置
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921364512003-12-22IPC H01L21/027
基板用托盤
日商新創機電科技股份有限公司
案號 0921360302003-12-18IPC H01L21/027
改善半導體元件不同圖案間關鍵尺寸之一致性的方法及裝置
旺宏電子股份有限公司
案號 0921358642003-12-17IPC H01L21/027
微奈米線寬製程
華星光電國際（香港）有限公司
案號 0921357202003-12-17IPC H01L21/027
平台裝置與曝光裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921355012003-12-16IPC H01L21/027
具有防止充電之印刷模板遮罩及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921355872003-12-16IPC H01L21/027
遮罩及其製造方法，及使用該遮罩之半導體裝置製造方法
羅姆股份有限公司
案號 0921351212003-12-12IPC H01L21/027
熱處理裝置及熱處理之方法
新力股份有限公司
案號 0921350132003-12-11IPC H01L21/027
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348062003-12-10IPC H01L21/027