IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
微影圖案縮小製造方法及物件
布瑞沃科學公司
案號 0921046642003-03-05IPC H01L21/027
最小線寬不均勻性的改善方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921047252003-03-05IPC H01L21/027
基板的曝光方法及其裝置
海成帝愛斯股份有限公司
案號 0921045722003-03-04IPC H01L21/027
半導體裝置之製造方法及半導體裝置之製造裝置
東芝股份有限公司
案號 0921045322003-03-04IPC H01L21/027
投影光學系統之調整方法、圖案像特性之預測方法、評價方法、圖案像形成之調整方法、曝光方法及曝光裝置、記錄媒體以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921043732003-03-03IPC H01L21/027
光罩或基板的傳送方法，儲存盒，用於該方法中之組件或裝置，以及包括該方法之組件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921042422003-02-27IPC H01L21/027
增進光阻均勻度與使用率之光阻塗佈方法
群創光電股份有限公司
案號 0921043402003-02-27IPC H01L21/027
半導體裝置之製造方法
日立製作所股份有限公司
案號 0921042082003-02-27IPC H01L21/027
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921041692003-02-27IPC H01L21/027
使用雙波長形成自動對準圖案之方法
格羅方德半導體公司
案號 0921041542003-02-27IPC H01L21/027
曝光系統及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921040042003-02-26IPC H01L21/027
曝光裝置、曝光方法、元件製造方法以及測量方法與測量裝置
尼康股份有限公司
案號 0921038852003-02-25IPC H01L21/027
一種利用重複曝光形成雙鑲嵌結構的方法
聯華電子股份有限公司
案號 0921037212003-02-21IPC H01L21/027
薄膜形成裝置和薄膜形成方法、液晶裝置之製造裝置和液晶裝置之製造方法和液晶裝置、及薄膜構造體之製造裝置和薄膜構造體之製造方法和薄膜構造體及電子機器
精工愛普生股份有限公司
案號 0921035572003-02-20IPC H01L21/027
曝光用光罩之製造方法及曝光用光罩
新力股份有限公司
案號 0921030762003-02-14IPC H01L21/027
位置量測方法、曝光方法以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921031742003-02-14IPC H01L21/027
提供增進重疊精確度之多重曝光微影之方法及系統
三星電子股份有限公司
案號 0921027562003-02-11IPC H01L21/027
使用單一光罩於多重蝕刻步驟的微影製程
中華映管股份有限公司
案號 0921028022003-02-11IPC H01L21/027
改善薄光阻之圖案輪廓的方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921027632003-02-11IPC H01L21/027
改善光阻平整度的方法與溝槽電容之下電極的製造方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921027622003-02-11IPC H01L21/027