IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
半導體積體電路裝置的製造方法，曝光方法及光掩模的搬運方法
聯晶半導體股份有限公司
案號 0921025722003-02-07IPC H01L21/027
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921022442003-01-30IPC H01L21/027
形成包括多個裝置之硒化鍺之方法以及形成包括多個結構之硒化銀的方法
美光科技公司
案號 0921022092003-01-30IPC H01L21/027
一種半導體微影製程
聯華電子股份有限公司
案號 0921020722003-01-29IPC H01L21/027
曝光方法及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921017762003-01-28IPC H01L21/027
防治光阻殘渣產生的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921015742003-01-24IPC H01L21/027
曝光方法及裝罝
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921008492003-01-16IPC H01L21/027
光罩之製造方法及半導體積體電路裝置之製造方法
日立製作所股份有限公司
案號 0921008842003-01-16IPC H01L21/027
微影裝置，裝置清潔方法，裝置製造方法及其所製造之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921007762003-01-15IPC H01L21/027
形成半導體裝置之圖案的方法
海力士半導體有限公司
案號 0911371472002-12-24IPC H01L21/027
應用於積體電路之圖案化的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0911371122002-12-24IPC H01L21/027
半導體元件之微圖案的形成方法
東部電子股份有限公司
案號 0911364442002-12-23IPC H01L21/027
光罩及半導體裝置製造方法
ＮＥＣ電子股份有限公司
案號 0911370002002-12-20IPC H01L21/027
氣體清除方法及曝光裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0911367912002-12-20IPC H01L21/027
用以製造細微結構之無抗蝕劑微影方法
億恒科技公司
案號 0911368102002-12-20IPC H01L21/027
半導體裝置製造方法，利用該方法製造之半導體裝置，及微影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911365162002-12-18IPC H01L21/027
藥液供應裝置以及藥液供應方法
小金井股份有限公司
案號 0911363512002-12-17IPC H01L21/027
藥液供應裝置以及藥液供應裝置之排氣方法
小金井股份有限公司
案號 0911363522002-12-17IPC H01L21/027
形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法
財團法人工業技術研究院
案號 0911364082002-12-17IPC H01L21/027
微影模版和其形成及使用方法
美商恩智浦美國公司
案號 0911362572002-12-16IPC H01L21/027