IPC H01L21/3063 專利列表
共 12 筆結果
製造半導體裝置的方法及設備
東部電子股份有限公司
案號 0931039852004-02-18IPC H01L21/3063
電漿處理裝置及電漿處理裝置用的電極板及電極板製造方法
歐克科技股份有限公司
案號 0931024292004-02-03IPC H01L21/3063
用以產生電漿之電漿處理室
泛林股份有限公司
案號 0921362732003-12-19IPC H01L21/3063
半導體裝置之製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921352702003-12-12IPC H01L21/3063
清洗保養旋轉蝕刻機之方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921245232003-09-04IPC H01L21/3063
電解式遮罩鉻膜之蝕刻製程方法
中芯國際集成電路製造（上海）有限公司
案號 0921195952003-07-17IPC H01L21/3063
蝕刻晶面對準方法
逢源科技股份有限公司
案號 0921099272003-04-28IPC H01L21/3063
具有厚度測量系統之自旋蝕刻器
細美事有限公司
案號 0921059492003-03-18IPC H01L21/3063
形成氮化層間隙壁之兩階段氮化矽蝕刻
茂德科技股份有限公司
案號 0921031702003-02-14IPC H01L21/3063
開口之製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921024572003-02-06IPC H01L21/3063
電化學斜邊與邊緣清潔方法及系統
ＡＳＭ努突爾股份有限公司
案號 0911370542002-12-23IPC H01L21/3063
用以設置供電處理製程用之電氣接點的方法與系統
ＡＳＭ努突爾股份有限公司
案號 0911320342002-10-28IPC H01L21/3063