IPC H01L21/3105 專利列表
共 7 筆結果
旋塗材料層之平坦化方法及光阻層之製造方法
茂德科技股份有限公司
案號 0931058172004-03-05IPC H01L21/3105
可分別對雙鑲嵌製程之中介窗與溝槽進行表面處理的方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921374382003-12-30IPC H01L21/3105
利用聚硫研磨漿進行銅化學機械平坦化組合物及方法
安托菲娜化學公司
案號 0921338542003-12-02IPC H01L21/3105
形成良好方形輪廓之字元線間隙壁的製造方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921308212003-11-04IPC H01L21/3105
半導體沈積層之平坦化方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921185322003-07-07IPC H01L21/3105
在蝕刻製程後移除高分子的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921072552003-03-31IPC H01L21/3105
具多層佈線之半導體元件的製造方法
富士通半導體股份有限公司
案號 0921035372003-02-20IPC H01L21/3105