IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
穩定抗反射層之光學特性參數的方法
南亞科技股份有限公司
案號 0931083052004-03-26IPC G03F7/20
曝光裝置
亞得科技工程有限公司
案號 0931079422004-03-24IPC G03F7/20
基板曝光裝置
富士軟片股份有限公司
案號 0931077102004-03-23IPC G03F7/20
一種應用於光學微影系統之孔隙盤
南亞科技股份有限公司
案號 0931072732004-03-18IPC G03F7/20
提高曝光直線之標準影像對數斜率的方法
南亞科技股份有限公司
案號 0931071632004-03-17IPC G03F7/20
投影光學系統、曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0931069222004-03-16IPC G03F7/20
深紫外線單元放大投影光學系統及投影曝光裝置
烏翠泰克股份有限公司
案號 0931067152004-03-12IPC G03F7/20
光學裝置、曝光裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0931065702004-03-12IPC G03F7/20
藉分區曝光以製造液晶顯示面板之方法
三星電子股份有限公司
案號 0931067042004-03-12IPC G03F7/20
光罩定位裝置
家登精密工業股份有限公司
案號 0931064932004-03-11IPC G03F7/20
包含用以決定一基底之高度及傾斜之至少一者之感測器之總成及其方法及一微影投射裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931063182004-03-10IPC G03F7/20
用於維護機器部件的方法和裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931063212004-03-10IPC G03F7/20
微影投射組件，載入鎖及用以傳送物件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931063202004-03-10IPC G03F7/20
一種應用於光學微影系統之孔隙盤
南亞科技股份有限公司
案號 0931063862004-03-10IPC G03F7/20
微影投射組合，用於處理基底之處理裝置及處理一基底之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931062542004-03-09IPC G03F7/20
微影裝置、元件製造方法及藉由該方法所製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931062552004-03-09IPC G03F7/20
於一微影投射裝置中監視聚焦點
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931062592004-03-09IPC G03F7/20
於高數值孔徑系統中之靜態及動態徑向橫向電場偏光器
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931062532004-03-09IPC G03F7/20
圖案描繪裝置
斯克林集團公司
案號 0931055192004-03-03IPC G03F7/20
操縱度量光束與定其路線之裝置及方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931054252004-03-02IPC G03F7/20