IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
用於一曝光機台之檢測裝置及檢測方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0931052192004-02-27IPC G03F7/20
曝光裝置、曝光方法及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0931048952004-02-26IPC G03F7/20
控制質量位置，尤其在微影裝置中控制質量位置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931047942004-02-25IPC G03F7/20
浸液曝光製程用浸潤液及使用該浸潤液之光阻圖形形成法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931047982004-02-25IPC G03F7/20
帶狀工件的兩面投影曝光裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0931044622004-02-23IPC G03F7/20
反射式投影光學系統及曝光裝置
佳能股份有限公司
案號 0931043222004-02-20IPC G03F7/20
液晶面板用曝光裝置及曝光裝置
大見忠弘
案號 0931042282004-02-20IPC G03F7/20
微影製造方法，微影投影裝置，包含軟體程式之電腦可讀取媒體，以及機器人系統
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931041072004-02-19IPC G03F7/20
利用遮光手段的曝光裝置，曝光方法，薄膜電晶體的製造方法，顯示裝置及電子機器
精工愛普生股份有限公司
案號 0931041262004-02-19IPC G03F7/20
具有降低傾斜感應之晶圓對準之裝置及方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931034992004-02-13IPC G03F7/20
具有一氣體沖洗系統之微影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931031772004-02-11IPC G03F7/20
最佳化微影裝置之照明條件的方法、微影投影裝置、機器可讀取媒體及半導體元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931031122004-02-10IPC G03F7/20
提供任務型自動化微影光罩缺陷可印分析之系統及方法
新納普系統股份有限公司
案號 0931028742004-02-06IPC G03F7/20
微影裝置及偵測正確夾持物件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931027692004-02-06IPC G03F7/20
高量子效率之影像感測器及其製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0931027482004-02-06IPC G03F7/207
超半球固態浸沒式透鏡之製法
國立交通大學
案號 0931014392004-01-20IPC G03F7/20
二進位半色調光罩，微觀三維裝置，以及製造其之方法
福昌公司
案號 0931016072004-01-20IPC G03F7/20
多重偏極裝置
楊永宗
案號 0931012782004-01-16IPC G03F7/20
微影裝置之位準感應器
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931008172004-01-13IPC G03F7/20
使用磁力的可移除的光罩窗口和支撐架
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0931004612004-01-08IPC G03F7/20