IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
形成光學影像之方法、利用此方法之繞射元件、執行此方法之裝置及製造使用此方法之裝置之製程
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0911366582002-12-19IPC G03F7/20
以機器手臂光罩端效應器傳送和載入一光罩之方法和裝置
艾斯摩美國股份有限公司
案號 0911365382002-12-18IPC G03F7/20
微影裝置，裝置製造方法及所製造之裝置，以及電腦程式
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911356742002-12-10IPC G03F7/20
雷射描繪方法及其裝置
大日本屏幕製造股份有限公司
案號 0911356982002-12-10IPC G03F7/20
曝光方法及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0911355002002-12-06IPC G03F7/20
光罩及其製造方法、以及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0911351572002-12-04IPC G03F7/20
曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0911349962002-12-03IPC G03F7/20
微影裝置，製造裝置之方法，以及製造光學元件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911349362002-12-02IPC G03F7/20
微細光阻圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0911349562002-12-02IPC G03F7/20
成像裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911347732002-11-29IPC G03F7/20
利用移除輔助特性以增進製程曝光範圍之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911346142002-11-28IPC G03F7/20
電子裝置之製造方法
日立製作所股份有限公司
案號 0911344842002-11-27IPC G03F7/20
微影投影裝置，裝置之製造方法及該方法製成之裝置，及用來清潔污染物件之清潔單元及方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911335002002-11-15IPC G03F7/20
基板照光裝置
友達光電股份有限公司
案號 0911334832002-11-15IPC G03F7/20
微影投影設備，裝置製造方法及所製造之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911335012002-11-15IPC G03F7/20
光罩及其製造方法、及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0911334992002-11-15IPC G03F7/20
石版印刷裝置與裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911326862002-11-06IPC G03F7/20
壓電致動器，微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911326672002-11-06IPC G03F7/20
光罩及使用此光罩製造半導體裝置之方法
海力士半導體有限公司
案號 0911326912002-11-06IPC G03F7/20
保護膠片及附設保護膠片之光罩的製造方法
三井化學股份有限公司
案號 0911323462002-10-31IPC G03F7/20