IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921296192003-10-24IPC G03F7/20
含有二次電子移去單元之微影投影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921288902003-10-17IPC G03F7/20
動態光罩模組
國立臺灣科技大學
案號 0921286662003-10-16IPC G03F7/20
在光學石版曝光時，冷卻標度線之方法以及裝置
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921287372003-10-16IPC G03F7/20
決定雜散輻射之方法，微影投影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921285492003-10-15IPC G03F7/20
於薄基板或類似物上形成圖案之方法及裝置
大日本印刷股份有限公司
案號 0921283502003-10-13IPC G03F7/20
光罩圖案補正方法
新力股份有限公司
案號 0921273332003-10-02IPC G03F7/20
輻射源、微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921270622003-09-30IPC G03F7/20
微影裝置及製造元件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921268442003-09-29IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921266522003-09-26IPC G03F7/20
微影裝置及測量系統
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921266682003-09-26IPC G03F7/20
於基底側表面上配線之微影方法
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0921266432003-09-26IPC G03F7/20
光罩之設計方法、圖案預測方法及記錄媒體
東芝股份有限公司
案號 0921263422003-09-24IPC G03F7/207
用在微影系統之對準系統及方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921259772003-09-19IPC G03F7/207
元件檢查
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921259342003-09-19IPC G03F7/20
用在使用至少二波長之微影系統的對準系統及方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921259612003-09-19IPC G03F7/20
微影標示結構，包含一微影標示結構之微影投影裝置及使用一微影標示結構對準基底之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921259322003-09-19IPC G03F7/20
輻射源，微影裝置，及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921256232003-09-17IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921250392003-09-10IPC G03F7/20
使用多干涉束的光罩對焦量測系統及方法
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921243652003-09-03IPC G03F7/20