IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
校準工具，微影裝置，校準方法，元件製造方法及其所製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921235732003-08-27IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921235712003-08-27IPC G03F7/20
微影設備，裝置製造方法，及其所製造之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921235722003-08-27IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921234692003-08-26IPC G03F7/20
微影投射裝置及使用在該裝置中之反射器組件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921232952003-08-25IPC G03F7/20
投影光學系統、微影方法、曝光裝置及使用此曝光裝置的方法
尼康股份有限公司
案號 0921230992003-08-22IPC G03F7/20
連續直接寫入光學微影平版印刷技術
川寶科技股份有限公司
案號 0921231662003-08-22IPC G03F7/20
微影投影裝置及用於該裝置之微粒阻障層
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921230082003-08-21IPC G03F7/20
半導體微影系統及其偏極化光罩成像方法
吳東耘
案號 0921228322003-08-20IPC G03F7/20
反射器組合體，微影投影裝置，具有反射器組合體之輻射系統，以及藉由一微影處理製造一積體結構之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921222682003-08-13IPC G03F7/20
可降低光學接近效應之光罩
旺宏電子股份有限公司
案號 0921222942003-08-13IPC G03F7/20
曝光裝置判定系統、曝光裝置判定方法、記錄媒體及半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921213762003-08-05IPC G03F7/20
用以校正在紫外線微影術中的本質雙折射之方法及系統
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921214802003-08-05IPC G03F7/20
繞射光學元件、折射光學元件、照明光學裝置、曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921203842003-07-25IPC G03F7/20
導光板模仁製程
鴻海精密工業股份有限公司
案號 0921200722003-07-23IPC G03F7/20
使用曝光源及反射表面製造光學薄膜之方法及系統
柯達公司
案號 0921199802003-07-22IPC G03F7/20
奈米粒子圖形的形成方法
財團法人國家實驗研究院
案號 0921192232003-07-15IPC G03F7/20
用於在一基材上形成一圖案之系統
分子壓模公司
案號 0921188832003-07-10IPC G03F7/20
檢查方法及光罩
東芝股份有限公司
案號 0921187372003-07-09IPC G03F7/20
微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921187162003-07-09IPC G03F7/20