IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
半導體裝置及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921297622003-10-27IPC H01L21/00
半導體裝置之製造方法
微軟技術授權有限責任公司
案號 0921297632003-10-27IPC H01L21/00
用來裝配電子零件的裝置及方法
ＴＤＫ股份有限公司
案號 0921294622003-10-23IPC H01L21/00
氮化物發光元件與高功率氮化物發光元件
璨圓光電股份有限公司
案號 0921293432003-10-22IPC H01L21/00
生產排程方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921291122003-10-21IPC H01L21/00
基板處理方法及基板處理裝置
Ｊ Ｅ Ｔ 股份有限公司
案號 0921287932003-10-17IPC H01L21/00
用於更高突崩電壓操作之具有外延層的瞬態電壓抑制器
通用半導體股份有限公司
案號 0921289032003-10-17IPC H01L21/00
基板處理方法及基板處理裝置
Ｓ Ｅ Ｓ股份有限公司
案號 0921287922003-10-17IPC H01L21/00
藉埋設氧化層中之壓縮材料導入張力應變矽之半導體裝置
格羅方德半導體公司
案號 0921286842003-10-16IPC H01L21/00
半導體設備及其製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921287392003-10-16IPC H01L21/00
頂部發射有機發光二極體面板之封裝
法商英特數位ＣＥ專利控股公司
案號 0921287162003-10-16IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
瑞薩電子股份有限公司
案號 0921287122003-10-16IPC H01L21/00
電漿處理裝置
松下電器產業股份有限公司
案號 0921287032003-10-16IPC H01L21/00
半導體製程系統中氟類化合物之感測裝置及方法
恩特葛瑞斯股份有限公司
案號 0921286882003-10-16IPC H01L21/00
液處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921284042003-10-14IPC H01L21/00
塗佈機台及無光阻液來源時之塗佈機台控制方法
台灣茂矽電子股份有限公司
案號 0921283452003-10-13IPC H01L21/00
影像感測器中之平面彩色濾波器之形成方法
華微半導體（上海）有限責任公司
案號 0921282002003-10-09IPC H01L21/00
半導體製程等待時間限制下的派工控制方法以及製造半導體元件的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921280532003-10-09IPC H01L21/00
裝置及其製造方法，以及具備該裝置的電子機器
精工愛普生股份有限公司
案號 0921279772003-10-08IPC H01L21/00
具反向第二封裝之半導體堆疊式多封裝模組
恰巴克有限公司
案號 0921282072003-10-08IPC H01L21/00