IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
依據批量與工具可用狀態計畫生產批次之方法與裝置
格羅方德半導體公司
案號 0911347202002-11-29IPC H01L21/00
製程處理室組件上之製程殘餘物的清洗方法
應用材料股份有限公司
案號 0911342342002-11-25IPC H01L21/00
於半導體自動化晶圓測試中確保探針卡對晶圓平行之一致性裝置與方法，探針卡量測系統，及探針卡之製造
愛德萬測試股份有限公司
案號 0911339712002-11-21IPC H01L21/00
可拆式反應室內襯結構及含其之晶圓製程反應室
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911333502002-11-14IPC H01L21/00
用於微電子基板自動加工之涵蓋範圍減少工具
艾福斯埃國際公司
案號 0911331352002-11-12IPC H01L21/00
改善光阻輪廓之方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911330042002-11-11IPC H01L21/00
晶圓電鍍裝置與方法
財團法人工業技術研究院
案號 0911328322002-11-07IPC H01L21/00
金屬薄膜製造裝置
佳能安內華股份有限公司
案號 0911327892002-11-07IPC H01L21/00
閃光放射裝置以及光加熱裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0911327092002-11-06IPC H01L21/00
經整合的乾│濕處理裝置及利用乾│濕製程用以除去在半導體晶圓上的材料之方法
金容倍
案號 0911326592002-11-06IPC H01L21/00
單一晶圓乾燥器及乾燥方法
應用材料股份有限公司
案號 0911324492002-11-01IPC H01L21/00
半導體裝置
大見忠弘
案號 0921250322001-12-27IPC H01L21/00
處理裝置之保養方法、處理裝置之自動檢查方法、處理裝置之自動回復方法及驅動處理裝置之軟體的自我診斷方法（一）
東京威力科創股份有限公司
案號 0911332922001-07-06IPC H01L21/00
半導體裝置之設計方法，及儲存其設計程式之記錄媒體
東芝股份有限公司
案號 0921133442000-09-05IPC H01L21/00
具有直立堆疊的處理室及單一軸線雙晶圓傳遞系統的半導體晶圓處理系統
矽谷集團熱系統有限責任公司
案號 0921263732000-03-31IPC H01L21/00
遠方維護系統
佳能股份有限公司
案號 0921058911997-07-21IPC H01L21/00