IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
對準方法、對準基板、對準基板之製造方法、曝光方法、曝光裝置及光罩之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921239502003-08-29IPC H01L21/027
光罩缺陷檢查方法、半導體裝置之製造方法、光罩缺陷檢查裝置、缺陷影響度地圖作成方法及電腦程式製品
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921232812003-08-25IPC H01L21/027
標記位置檢測裝置、標記位置檢測方法、重疊狀態測定裝置、以及重疊狀態測定方法
尼康股份有限公司
案號 0921231182003-08-22IPC H01L21/027
降低鄰近效應之啞圖案及其使用方法
億恆科技股份公司
案號 0921232392003-08-22IPC H01L21/027
微細圖像之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921230472003-08-21IPC H01L21/027
曝光裝置之檢查方法及曝光裝置
東芝股份有限公司
案號 0921230112003-08-21IPC H01L21/027
光阻劑塗佈方法及光阻劑塗佈裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921227732003-08-19IPC H01L21/027
薄膜電晶體陣列基板及其微影製程與光罩設計
友達光電股份有限公司
案號 0921226052003-08-18IPC H01L21/027
具有對準記號之互補分割光罩、該互補分割光罩之對準記號之形成方法、使用該互補分割光罩所製造之半導體裝置及其製造方法
新力股份有限公司
案號 0921213862003-08-05IPC H01L21/027
改善近接式曝光時產生之缺陷的曝光方法及其裝置
奇美電子股份有限公司
案號 0921213112003-08-04IPC H01L21/027
開口之製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921213032003-08-04IPC H01L21/027
投影曝光系統
卡爾蔡司ＳＭＴ有限公司
案號 0921210692003-07-31IPC H01L21/027
高深寬比圖案轉移製作方法
國立成功大學
案號 0921209302003-07-31IPC H01L21/027
介電層的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921207702003-07-30IPC H01L21/027
繞射光學元件、照明光學裝置、曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921203832003-07-25IPC H01L21/027
形成雙層抗蝕劑圖案
應用材料股份有限公司
案號 0921204652003-07-25IPC H01L21/027
具有連接到真空室的真空標線片儲存庫之微影工具
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921201102003-07-23IPC H01L21/027
彩色濾光膜基板的製造方法
友達光電股份有限公司
案號 0921199392003-07-22IPC H01L21/027
模版形成方法
精碟科技股份有限公司
案號 0921198872003-07-21IPC H01L21/027
以交替式相位移原理改善接觸洞圖案解析度之方法
大陸商合肥晶合集成電路股份有限公司
案號 0921198722003-07-21IPC H01L21/027