IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
半導體裝置的製作方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921102052003-04-30IPC H01L21/027
對準裝置、對準方法及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921101462003-04-30IPC H01L21/027
具有群組補償能力之曝光系統及方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921101372003-04-30IPC H01L21/027
管理系統與設備及其方法和裝置之製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921096212003-04-24IPC H01L21/027
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921094042003-04-22IPC H01L21/027
光罩毛胚之製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921093122003-04-22IPC H01L21/027
微影製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921090202003-04-18IPC H01L21/027
使用具前置數值孔徑控制之照射系統來改善微影裝置上的線寬控制之系統及方法
荷蘭商ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921089652003-04-17IPC H01L21/027
液晶顯示面板之前段陣列製程
友達光電股份有限公司
案號 0921090032003-04-17IPC H01L21/027
光阻除去裝置及光阻除去方法
禧沛股份有限公司
案號 0921087192003-04-15IPC H01L21/027
使用散射儀剖面量測之疊對量測方法及裝置
安華高科技通用ＩＰ（新加坡）公司
案號 0921085722003-04-14IPC H01L21/027
化合物半導體裝置之製造方法
三菱電機股份有限公司
案號 0921079872003-04-08IPC H01L21/027
增加重製的光阻圖案層附著性之方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921079902003-04-08IPC H01L21/027
光罩製程及薄膜電晶體之製造方法
群創光電股份有限公司
案號 0921077122003-04-04IPC H01L21/027
旋轉塗覆法，測定旋轉塗覆條件之方法，光罩空白板及其製法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921076142003-04-03IPC H01L21/027
移除光阻及蝕刻殘餘物之方法
東京威力科創有限公司
案號 0921076302003-04-03IPC H01L21/027
具有多層介電質堆疊之物件
陶氏全球科技股份有限公司
案號 0921074152003-04-01IPC H01L21/027
膠黏劑之塗佈方法
茂德科技股份有限公司
案號 0921074412003-04-01IPC H01L21/027
光阻去除裝置及方法
弘塑科技股份有限公司
案號 0921074252003-04-01IPC H01L21/027
用於形成半導體元件的方法及系統
應用材料股份有限公司
案號 0921071332003-03-28IPC H01L21/027