IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
印製鄰近大特徵之緊密空間中使用二次曝光以協助ＰＳＭ曝光
辛納普系統股份有限公司
案號 0921157742003-06-10IPC H01L21/027
曝光裝置及載台裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921156432003-06-10IPC H01L21/027
投影光學系統，曝光裝置，以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921142352003-05-27IPC H01L21/027
照射基板之裝置及方法
日東電工股份有限公司
案號 0921142672003-05-27IPC H01L21/027
照明光學裝置，曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921139472003-05-23IPC H01L21/027
光學積分器，光學照明裝置，曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921139452003-05-23IPC H01L21/027
掃描型曝光裝置及掃描型曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921139232003-05-23IPC H01L21/027
能量光束曝光方法及曝光裝置
東芝股份有限公司
案號 0921139942003-05-23IPC H01L21/027
彩色濾光基板製造方法
奇美電子股份有限公司
案號 0921140792003-05-23IPC H01L21/027
不同層次的曝光方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921138362003-05-22IPC H01L21/027
半導體裝置之製造方法
三菱電機股份有限公司
案號 0921137002003-05-21IPC H01L21/027
電子束光罩基板，電子束光罩毛胚，電子束光罩及其製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921137012003-05-21IPC H01L21/027
基板處理裝置、基板處理方法及噴嘴
東京威力科創股份有限公司
案號 0921135052003-05-19IPC H01L21/027
改善蝕刻製程良率的方法
友達光電股份有限公司
案號 0921132892003-05-16IPC H01L21/027
蝕刻微影光罩之方法
應用材料股份有限公司
案號 0921131322003-05-14IPC H01L21/027
微影製程
鴻海精密工業股份有限公司
案號 0921127302003-05-09IPC H01L21/027
曝光方法、曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921125172003-05-08IPC H01L21/027
逆轉印刻技術
新加坡科技研究局
案號 0921127442003-05-08IPC H01L21/027
具有立體表面圖案之單元的製造方法及該方法之用途
優利訊寶瑟斯公司
案號 0921124132003-05-07IPC H01L21/027
多重抗反射層及採用此種多重抗反射層的微影製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921101122003-04-30IPC H01L21/027