IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
蝕刻微影光罩之方法
應用材料股份有限公司
案號 0921131322003-05-14IPC H01L21/027
濺鍍裝置與使用此裝置之金屬層／金屬化合物層的製造方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921129042003-05-13IPC H01L21/02
平面顯示器及其製造方法
友達光電股份有限公司
案號 0921127802003-05-12IPC H01L21/02
微影製程
鴻海精密工業股份有限公司
案號 0921127302003-05-09IPC H01L21/027
曝光方法、曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921125172003-05-08IPC H01L21/027
形成電容元件於晶片上之方法及具有電容元件之晶片結構
高通公司
案號 0921125452003-05-08IPC H01L21/02
逆轉印刻技術
新加坡科技研究局
案號 0921127442003-05-08IPC H01L21/027
具有立體表面圖案之單元的製造方法及該方法之用途
優利訊寶瑟斯公司
案號 0921124132003-05-07IPC H01L21/027
半導體製造裝置
日立全球先端科技股份有限公司
案號 0921123322003-05-06IPC H01L21/02
對準裝置、對準方法及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921101462003-04-30IPC H01L21/027
具有群組補償能力之曝光系統及方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921101372003-04-30IPC H01L21/027
多重抗反射層及採用此種多重抗反射層的微影製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921101122003-04-30IPC H01L21/027
半導體裝置的製作方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921102052003-04-30IPC H01L21/027
夾頭，微影投射裝置，製造夾頭的方法及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921100062003-04-29IPC H01L21/02
管理系統與設備及其方法和裝置之製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921096212003-04-24IPC H01L21/027
結晶化材料之裝置與方法
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921094122003-04-22IPC H01L21/02
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921094042003-04-22IPC H01L21/027
光罩毛胚之製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921093122003-04-22IPC H01L21/027
微影製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921090202003-04-18IPC H01L21/027
使用具前置數值孔徑控制之照射系統來改善微影裝置上的線寬控制之系統及方法
荷蘭商ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921089652003-04-17IPC H01L21/027