IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
遮罩及其製造方法，及使用該遮罩之半導體裝置製造方法
羅姆股份有限公司
案號 0921351212003-12-12IPC H01L21/027
用於超導體元件之壓印微影法
惠普研發公司
案號 0921352252003-12-12IPC H01L21/02
熱處理裝置及熱處理之方法
新力股份有限公司
案號 0921350132003-12-11IPC H01L21/027
曝光裝置、元件製造方法、及真空系統
尼康股份有限公司
案號 0921348032003-12-10IPC H01L21/027
曝光裝置及曝光方法、元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348042003-12-10IPC H01L21/027
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921347982003-12-10IPC H01L21/027
光學元件及使用該光學元件之投影曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921348072003-12-10IPC H01L21/027
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348062003-12-10IPC H01L21/027
曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921348022003-12-10IPC H01L21/027
標線之運用
矽系統工業股份有限公司
案號 0921345752003-12-08IPC H01L21/027
製造半導體裝置之方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921344052003-12-05IPC H01L21/027
光阻的微縮方法
聯華電子股份有限公司
案號 0921344672003-12-05IPC H01L21/027
晶圓結構
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921339772003-12-03IPC H01L21/02
浸沒式微影製程以及應用於浸沒式微影製程之結構
聯華電子股份有限公司
案號 0921339742003-12-03IPC H01L21/027
積體電路識別
德州儀器公司
案號 0921339542003-12-03IPC H01L21/027
曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921338092003-12-02IPC H01L21/027
由底層基材、抗反射膜與光阻膜所形成之光阻圖型形成用材料
東京應化工業股份有限公司
案號 0921339052003-12-02IPC H01L21/027
光學照明裝置、光學照明裝置之調整方法、曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921336422003-12-01IPC H01L21/027
在任意尺寸之順應性媒體上複製出高解析度三維壓印圖案的方法
惠普研發公司
案號 0921335602003-11-28IPC H01L21/027
真空腔室承載鎖定之滌洗方法及裝置
ＢＯＣ集團公司
案號 0921333382003-11-27IPC H01L21/02