IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
半導體元件的校準圖樣形成方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921375352003-12-30IPC H01L21/027
互補金氧半導體影像偵測器的製造方法
科洛司科技有限公司
案號 0921370362003-12-26IPC H01L21/02
非連續曝光方法製作奈米電子元件
財團法人工業技術研究院
案號 0921371912003-12-26IPC H01L21/027
基板處理方法及基板處理裝置
斯克林集團公司
案號 0921366982003-12-24IPC H01L21/027
應用於微影製程的結構及半導體元件的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921364902003-12-23IPC H01L21/027
原子層沉積／化學氣相沉積阻障層與多孔低介電常數材料之整合
應用材料股份有限公司
案號 0921366082003-12-23IPC H01L21/02
保護對準記號的方法和結構
世界先進積體電路股份有限公司
案號 0921365152003-12-23IPC H01L21/027
雙層光阻乾式顯影用之方法及設備
東京威力科創股份有限公司
案號 0921365402003-12-23IPC H01L21/027
轉移光罩圖形之方法與裝置
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921364512003-12-22IPC H01L21/027
光罩、使用該光罩之圖案形成方法及光罩資料制作方法
松下電器產業股份有限公司
案號 0921364182003-12-22IPC H01L21/027
形成包含平台結構及多個被動層之半導體裝置之方法及相關裝置
美商科銳ＬＥＤ公司
案號 0921361632003-12-19IPC H01L21/02
形成具有自對準半導體平台及接觸層之半導體裝置之方法及相關裝置
美商科銳ＬＥＤ公司
案號 0921361642003-12-19IPC H01L21/02
基板用托盤
日商新創機電科技股份有限公司
案號 0921360302003-12-18IPC H01L21/027
處理方法及處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921357462003-12-17IPC H01L21/02
奈米線絲
惠普研發公司
案號 0921358042003-12-17IPC H01L21/02
改善半導體元件不同圖案間關鍵尺寸之一致性的方法及裝置
旺宏電子股份有限公司
案號 0921358642003-12-17IPC H01L21/027
顯示裝置及顯示裝置之製作方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921358622003-12-17IPC H01L21/02
微奈米線寬製程
華星光電國際（香港）有限公司
案號 0921357202003-12-17IPC H01L21/027
具有防止充電之印刷模板遮罩及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921355872003-12-16IPC H01L21/027
平台裝置與曝光裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921355012003-12-16IPC H01L21/027