IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
一種光阻塗佈裝置
香港商華星光電國際（香港）有限公司
案號 0921333042003-11-27IPC H01L21/027
半導體多層配線形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921334162003-11-27IPC H01L21/027
用於液晶顯示面板之裝配器及使用其之裝配方法
ＬＧ顯示器股份有限公司
案號 0921330292003-11-25IPC H01L21/02
半導體裝置及其製造方法
三星電子股份有限公司
案號 0921329972003-11-25IPC H01L21/027
光罩
聯華電子股份有限公司
案號 0921328662003-11-24IPC H01L21/027
曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921328682003-11-24IPC H01L21/027
真空腔體之分氣裝置
聚昌科技股份有限公司
案號 0921327132003-11-21IPC H01L21/02
矽絕緣體（ＳＯＩ）晶圓之製造方法
信越半導體股份有限公司
案號 0921327812003-11-21IPC H01L21/02
電漿處理裝置及電漿處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921325942003-11-20IPC H01L21/027
基板清潔裝置
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921326512003-11-20IPC H01L21/02
遮罩
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921322292003-11-18IPC H01L21/027
化學機械研磨輔助之剝離式微圖案
萬國商業機器公司
案號 0921322652003-11-18IPC H01L21/027
壓電控制下之磁致動器
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921321392003-11-17IPC H01L21/027
光罩，光罩之製造方法及光罩之製造裝置
瑞薩電子股份有限公司
案號 0921321082003-11-17IPC H01L21/027
多層構造體及其製造方法、機能構造體及其製造方法、以及電子線曝光用光罩及其製造方法
新力股份有限公司
案號 0921319852003-11-14IPC H01L21/02
用於真空管處理二度空間延伸的基板之設備以及用於製造此基板之方法
恩艾克西斯巴爾斯股份有限公司
案號 0921319752003-11-14IPC H01L21/02
半導體裝置
東芝股份有限公司
案號 0921319252003-11-14IPC H01L21/02
多層電路板，多層電路板製造方法，電子裝置以及電子設備
精工愛普生股份有限公司
案號 0921318442003-11-13IPC H01L21/02
顯像方法及顯像裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921318312003-11-13IPC H01L21/027
半導體元件的形成方法及其結構以及具有縮小間距之半導體元件的形成方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921314812003-11-11IPC H01L21/027