IPC H01L21/205 專利列表
共 103 筆結果
原子層沈積方法及原子層沈積工具
美光科技公司
案號 0921277842003-10-07IPC H01L21/205
發熱體化學氣相沉積裝置、及發熱體化學氣相沉積裝置的發熱體與電力供給機構之間的連接構造
安內華股份有限公司
案號 0921272022003-10-01IPC H01L21/205
用以形成磊晶層之方法及裝置
恩智浦股份有限公司
案號 0921270212003-09-30IPC H01L21/205
半導體裝置之製造方法
聯晶半導體股份有限公司
案號 0921266702003-09-26IPC H01L21/205
一種反應器
統寶光電股份有限公司
案號 0921265332003-09-25IPC H01L21/205
使用多層氧氮化矽之硬遮罩
高級微裝置公司
案號 0921258702003-09-19IPC H01L21/205
蝕刻設備之報廢遮蔽環回收再利用的方法
崇越科技股份有限公司
案號 0921257772003-09-18IPC H01L21/205
垂直流旋轉盤反應器之烷推送流
維克儀器公司
案號 0921250712003-09-10IPC H01L21/205
具阻抗匹配功能的電漿裝置與方法
聯華電子股份有限公司
案號 0921246042003-09-05IPC H01L21/205
使用ＣＵ２Ｓ之金屬有機化學氣相沈積方法
賽普拉斯半導體公司
案號 0921238882003-08-29IPC H01L21/205
氮化物半導體基板
住友電氣工業股份有限公司
案號 0921234672003-08-26IPC H01L21/205
降低沉積反應室腔體內氟殘留的方法
統寶光電股份有限公司
案號 0921231242003-08-22IPC H01L21/205
矽磊晶晶圓的製造方法
信越半導體股份有限公司
案號 0921232152003-08-22IPC H01L21/205
半導體裝置之製造方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921225112003-08-15IPC H01L21/205
摻雜矽玻璃的製造方法及介電層的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921212542003-08-04IPC H01L21/205
磊晶晶圓製造裝置及晶圓承載器構造
小松電子金屬股份有限公司
案號 0921206182003-07-29IPC H01L21/205
電漿處理裝置
三菱重工業股份有限公司
案號 0921199942003-07-22IPC H01L21/205
支撐頂針之下拉機構
中華映管股份有限公司
案號 0921200162003-07-22IPC H01L21/205
利用胺基甲矽烷和臭氧於低溫沈積介電質的方法
艾斯摩美國股份有限公司
案號 0921195802003-07-17IPC H01L21/205
用於薄膜沉積設備的蒸餾器
圓益ＩＰＳ股份有限公司
案號 0921193692003-07-16IPC H01L21/205