IPC H01L21/304 專利列表
共 149 筆結果
基板材之乾燥裝置
東京化工機股份有限公司
案號 0921374232003-12-30IPC H01L21/304
供用於平坦化之具有窗的拋光墊
片片堅俄亥俄州工業公司
案號 0921370952003-12-26IPC H01L21/304
化學機械研磨的近接校正方法及其校正圖案
華邦電子股份有限公司
案號 0921369802003-12-26IPC H01L21/304
供用於平坦化之拋光墊
片片堅俄亥俄州工業公司
案號 0921370752003-12-26IPC H01L21/304
半導體裝置之製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921357942003-12-17IPC H01L21/304
晶圓切割方法
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921350822003-12-11IPC H01L21/304
化學機械研磨裝置及其研磨墊輪廓的控制系統與調節方法
茂德科技股份有限公司
案號 0921349732003-12-11IPC H01L21/304
半導體裝置及其製造方法
大見忠弘
案號 0921338232003-12-02IPC H01L21/304
藉由組合受應力之結構而製造複合結構之方法
原子能委員會
案號 0921336652003-12-01IPC H01L21/304
清潔片材及基板處理設備之清潔方法
日東電工股份有限公司
案號 0921330162003-11-25IPC H01L21/304
洗淨劑組成物，半導體晶圓之洗淨方法，製造方法及半導體晶圓
昭和電工股份有限公司
案號 0921321692003-11-17IPC H01L21/304
基板處理裝置及基板處理方法
荏原製作所股份有限公司
案號 0921319512003-11-14IPC H01L21/304
研磨構件
聯華電子股份有限公司
案號 0921316242003-11-12IPC H01L21/304
電蝕刻系統及方法
ＡＳＭ努突爾股份有限公司
案號 0921314922003-11-11IPC H01L21/304
清除刷毛污染物之清潔片（ＣＬＥＡＮＥＲ ＤＩＳＣ）
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921296362003-10-24IPC H01L21/304
處理半導體晶圓之方法
迪思科股份有限公司
案號 0921295962003-10-24IPC H01L21/304
平坦化半導體晶粒的方法
希里康儲存技術公司
案號 0921294612003-10-23IPC H01L21/304
晶片研磨機台及避免晶片產生裂痕之研磨方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921287552003-10-16IPC H01L21/304
晶圓切割方法
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921266882003-09-26IPC H01L21/304
使用樹脂粒子之半導體基板上之有機膜之研磨方法及研磨液
東芝記憶體股份有限公司
案號 0921266612003-09-26IPC H01L21/304