IPC H01L21/30 專利列表
共 510 筆結果
閘極導體之製造方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921258492003-09-19IPC H01L21/30
旋轉型矽晶圓洗淨裝置
富士金股份有限公司
案號 0921259972003-09-19IPC H01L21/30
以稠處理流體及超音波能量處理半導體元件的方法
氣體產品及化學品股份公司
案號 0921260282003-09-19IPC H01L21/306
圖案化金屬層的方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921256922003-09-18IPC H01L21/3065
蝕刻矽晶圓之方法
ＭＥＭＣ電子材料公司
案號 0921257322003-09-18IPC H01L21/306
光束均勻器，雷射照射裝置，和半導體裝置之製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921257512003-09-18IPC H01L21/302
晶圓清洗的前處理方法及晶圓清洗製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921255632003-09-17IPC H01L21/304
電漿蝕刻裝置用構件及其製造方法
信越石英股份有限公司
案號 0921256802003-09-16IPC H01L21/3065
清洗設備
旺宏電子股份有限公司
案號 0921254652003-09-16IPC H01L21/30
電化輔助化學機械拋光中移除行程之控制
應用材料股份有限公司
案號 0921255322003-09-16IPC H01L21/302
氣體分佈平板
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921255302003-09-16IPC H01L21/3065
蝕刻液之再生製程、蝕刻製程、以及蝕刻系統
日商龍雲股份有限公司
案號 0921253182003-09-15IPC H01L21/306
多晶矽層之處理方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921251452003-09-12IPC H01L21/304
溼蝕刻矽薄膜之厚度即時監控方法
張培仁
案號 0921251882003-09-12IPC H01L21/30
噴射流單體化
東和英特康科技股份有限公司
案號 0921253652003-09-12IPC H01L21/304
用於減少於基板及基板支撐上聚合物沈積之裝置
藍姆研究公司
案號 0921250852003-09-10IPC H01L21/3065
化學機械研磨裝置用研磨漿調製供給裝置及其方法
ｍ ＦＳＩ股份有限公司
案號 0921248532003-09-09IPC H01L21/302
半導體基板用清洗液及半導體裝置之製造方法
東友ＦＩＮＥ ＣＨＥＭ股份有限公司
案號 0921247142003-09-08IPC H01L21/304
形成奈米尖端陣列的方法
中央研究院
案號 0921245662003-09-05IPC H01L21/3065
防止在晶背研磨後晶圓翹曲之方法
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921245072003-09-04IPC H01L21/304