IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
電漿處理裝置
積水化學工業股份有限公司
案號 0921239712003-08-29IPC H01L21/00
基板處理裝置及基板處理裝置的洗淨方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921240432003-08-29IPC H01L21/00
基板處理裝置、基板處理裝置之洗淨終點偵測方法、及基板處理之終點偵測方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921240382003-08-29IPC H01L21/00
半導體處理系統用的氣體清淨化裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921239962003-08-29IPC H01L21/00
用於作動流體之分配的系統、使用於其中的基板及氣板、接收於基板中的歧管、安裝用組件及將基板連結至安裝用平板的方法
快捷公司
案號 0921235452003-08-27IPC H01L21/00
半導體元件及製造該半導體元件的方法
富士通半導體股份有限公司
案號 0921231692003-08-22IPC H01L21/00
實裝處理裝置及該實裝處理裝置之控制裝置
ＴＤＫ股份有限公司
案號 0921228842003-08-20IPC H01L21/00
半導體層結構之ＭＢＥ成長
夏普股份有限公司
案號 0921228962003-08-20IPC H01L21/00
自基材表面選擇性移除材質的方法，晶圓遮罩材料，及帶有遮罩材料之晶圓
伊克塞利塔斯科技新加坡私人有限公司
案號 0921223862003-08-14IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921223542003-08-14IPC H01L21/00
減少侵蝕之氮氧化方法
賽普拉斯半導體公司
案號 0921222182003-08-13IPC H01L21/00
電路裝置之製造方法
三洋電機股份有限公司
案號 0921222212003-08-13IPC H01L21/00
昇降式基板處理裝置及具備其之基板處理系統
住友精密工業股份有限公司
案號 0921220462003-08-12IPC H01L21/00
半導體裝置
日立製作所股份有限公司
案號 0921210832003-08-01IPC H01L21/00
製備封裝半導體元件之方法及裝置、由此方法所製得之封裝半導體元件、及使用於此方法之金屬載體
恩智浦股份有限公司
案號 0921211502003-08-01IPC H01L21/00
控片管理系統
力晶半導體股份有限公司
案號 0921209072003-07-30IPC H01L21/00
光學系統的調整方法及裝置，及曝光裝置
佳能股份有限公司
案號 0921207072003-07-29IPC H01L21/00
提供氣體至一處理室之方法與設備
應用材料股份有限公司
案號 0921207202003-07-29IPC H01L21/00
用於旋轉潤洗乾燥機之親水性零件
應用材料股份有限公司
案號 0921204632003-07-25IPC H01L21/00
搬送式基板處理裝置
住友精密工業股份有限公司
案號 0921203892003-07-25IPC H01L21/00