IP

IPC H01L21/00 專利列表

共 396 筆結果

阻劑圖案增厚材料、阻劑圖案之形成方法及半導體裝置之製造方法

富士通股份有限公司

案號 0921257132003-09-18IPC H01L21/00

半導體裝置、半導體裝置之製造方法及結晶裝置

液晶先端技術開發中心股份有限公司

案號 0921258212003-09-18IPC H01L21/00

製造半導體元件的方法

史班遜股份有限公司

案號 0921256042003-09-17IPC H01L21/00

從處理物件上移除製程材料外殼光阻層或製程殘餘物之系統及方法

麥特森科技公司

案號 0921255752003-09-17IPC H01L21/00

薄膜電晶體陣列製作方法

華星光電國際(香港)有限公司

案號 0921255282003-09-16IPC H01L21/00

多晶化之光罩及使用多晶化光罩製造薄膜電晶體之方法

三星顯示器有限公司

案號 0921255052003-09-16IPC H01L21/00

製造半導體裝置之方法及藉此方法獲得之半導體裝置

皇家飛利浦電子股份有限公司

案號 0921252412003-09-12IPC H01L21/00

用以形成一矽薄膜於一玻璃基材表面之方法及設備

應用材料股份有限公司

案號 0921252792003-09-12IPC H01L21/00

建立電氣接點之主動方法與系統

瓦里安半導體設備聯合公司

案號 0921252512003-09-12IPC H01L21/00

免背面薄化晶圓製程

中國砂輪企業股份有限公司

案號 0921248602003-09-09IPC H01L21/00

處理裝置及處理裝置之維護方法

東京威力科創股份有限公司

案號 0921247512003-09-08IPC H01L21/00

將曝光裝置內之參數值最佳化之方法及系統,及曝光裝置及方法

佳能股份有限公司

案號 0921247612003-09-08IPC H01L21/00

電介體膜及其形成方法,以及使用電介體膜之半導體裝置及其製造方法

液晶先端技術開發中心股份有限公司

案號 0921247122003-09-08IPC H01L21/00

強制對流輔助快速加熱爐

晶圓大師股份有限公司

案號 0921245842003-09-05IPC H01L21/00

結晶化裝置、結晶化方法及相移器

液晶先端技術開發中心股份有限公司

案號 0921245162003-09-04IPC H01L21/00

噴嘴清掃裝置及具備該噴嘴清掃裝置之基板處理裝置

大日本網板製造股份有限公司

案號 0921243382003-09-03IPC H01L21/00

半導體裝置

東芝股份有限公司

案號 0921243402003-09-03IPC H01L21/00

基板及其製造方法

佳能股份有限公司

案號 0921243612003-09-03IPC H01L21/00

探測方法、探測裝置及電極之還原/電漿蝕刻處理機構

歐克科技股份有限公司

案號 0921241202003-09-01IPC H01L21/00

一種光罩盒之增益結構改良

家登精密工業股份有限公司

案號 0921241422003-09-01IPC H01L21/00

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。