IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
穩定材料層性質的方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921074882003-04-02IPC H01L21/00
分解過氟化合物之裝置與使用該裝置處理過氟化合物之系統
三星電子股份有限公司
案號 0921068952003-03-27IPC H01L21/00
基板處理裝置
日商國際電氣股份有限公司
案號 0921068612003-03-27IPC H01L21/00
磁阻隨機存取記憶體裝置及其製造方法
飛思卡爾半導體公司
案號 0921067892003-03-26IPC H01L21/00
發光裝置以及其製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921066582003-03-25IPC H01L21/00
使用超臨界處理以去除污染物之方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921065222003-03-24IPC H01L21/00
生產線端資料採擷與製程機台資料採擷之關聯性
應用材料股份有限公司
案號 0921063912003-03-21IPC H01L21/00
半導體裝置之製造方法、半導體裝置及液晶顯示裝置
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0921060282003-03-19IPC H01L21/00
用於安裝半導體晶片的裝置
艾斯克通商公司
案號 0921060192003-03-19IPC H01L21/00
流程卡情況下半導體設備之污染控制方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921058802003-03-18IPC H01L21/00
用於均勻度控制之動態流體圖案控制器及其控制方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921058322003-03-17IPC H01L21/00
半導體製造裝置用保持體
住友電氣工業股份有限公司
案號 0921054872003-03-13IPC H01L21/00
以加快的速率加熱及冷卻晶圓之系統及方法
聖斯艾瑞公司
案號 0921053812003-03-12IPC H01L21/00
電漿處理方法，及陳化處理終了檢測方法以及電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921055302003-03-12IPC H01L21/00
半導體製造裝置
周星工程股份有限公司
案號 0921053042003-03-11IPC H01L21/00
在磁阻式隨機存取記憶裝置之導線上施加包層材料之方法
艾爾斯賓科技公司
案號 0921049172003-03-07IPC H01L21/00
液處理方法及液處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921044072003-03-03IPC H01L21/00
用來製造平面面板顯示基板之方法
奧寶科技有限公司
案號 0921039102003-02-25IPC H01L21/00
溫度測定系統、使用其之加熱裝置及半導體晶圓之製造方法
信越半導體股份有限公司
案號 0921038662003-02-25IPC H01L21/00
具有用以手動與自動處理微電子工件之處理站的裝置
薛米屠爾公司
案號 0921037772003-02-24IPC H01L21/00