IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
遮罩
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921322292003-11-18IPC H01L21/027
化學機械研磨輔助之剝離式微圖案
萬國商業機器公司
案號 0921322652003-11-18IPC H01L21/027
光罩，光罩之製造方法及光罩之製造裝置
瑞薩電子股份有限公司
案號 0921321082003-11-17IPC H01L21/027
壓電控制下之磁致動器
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921321392003-11-17IPC H01L21/027
顯像方法及顯像裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921318312003-11-13IPC H01L21/027
半導體元件的形成方法及其結構以及具有縮小間距之半導體元件的形成方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921314812003-11-11IPC H01L21/027
一種具有空氣間隔之積體電路結構及其製作方法
聯華電子股份有限公司
案號 0921315662003-11-11IPC H01L21/027
使用非尋常接觸形成方法以減少半導體胞體缺陷之方法及系統
賽普拉斯半導體公司
案號 0921313672003-11-10IPC H01L21/027
投影光學系統，曝光裝置及裝置製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921308502003-11-04IPC H01L21/027
轉印用光罩基板的製造方法及轉印用光罩基板
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921306642003-11-03IPC H01L21/027
曝光方法、曝光裝置以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921303852003-10-31IPC H01L21/027
包含雙曝光／雙烘烤之微影方法
台灣茂矽電子股份有限公司
案號 0921303532003-10-30IPC H01L21/027
微細圖案之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921295892003-10-24IPC H01L21/027
全像光罩與其製造方法及半導體製程中運用全像技術之微影方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921292002003-10-21IPC H01L21/027
光阻劑處理方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921287802003-10-17IPC H01L21/027
用於堆疊電子元件的自我校準接觸
諾斯洛普葛魯門公司
案號 0921286762003-10-16IPC H01L21/027
微細圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921281872003-10-09IPC H01L21/027
曝光裝置、對準方法及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921281282003-10-09IPC H01L21/027
塗敷機及塗敷方法
爾必達存儲器股份有限公司
案號 0921273962003-10-03IPC H01L21/027
具有多種矽薄膜厚度之絕緣層上矽晶積體電路元件
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921273442003-10-02IPC H01L21/027