IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
半導體裝置及其製造方法
ＮＥＣ電子股份有限公司
案號 0911345472002-11-27IPC H01L21/027
半導體製程中利用多次曝光降低已存缺陷之影響的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911345342002-11-27IPC H01L21/027
金屬矽化物的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0911344162002-11-27IPC H01L21/02
利用鋁作為銅擴散防止膜之形成方法
東部電子股份有限公司
案號 0911343812002-11-26IPC H01L21/02
於製造半導體及包括微米與次微米輪廓之其它微米元件與奈米元件期間的光學－機械性輪廓製造
應用材料股份有限公司
案號 0911343612002-11-26IPC H01L21/027
評價方法及曝光裝置之製造方法
尼康股份有限公司
案號 0911342782002-11-26IPC H01L21/027
覆液顯影方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911341692002-11-25IPC H01L21/027
降低量測及曝光中電荷累積效應的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911341352002-11-22IPC H01L21/027
用以形成光阻圖案之方法
奇美電子股份有限公司
案號 0911343952002-11-22IPC H01L21/027
半導體製程中利用相同圖案來修補光罩之方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911341332002-11-22IPC H01L21/02
微鏡元件之製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911341322002-11-22IPC H01L21/027
一種縮小元件臨界尺寸之方法
聯華電子股份有限公司
案號 0911341212002-11-22IPC H01L21/027
一種影像直接寫入在光阻上期間延長該光阻穩定性之方法
應用材料股份有限公司
案號 0911340062002-11-21IPC H01L21/027
薄膜電晶體顯示面板之製法
輔祥實業股份有限公司
案號 0911334712002-11-15IPC H01L21/02
使用雙十字型圖案之光罩進行接觸洞圖案之曝光方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0911335352002-11-15IPC H01L21/027
一種液晶顯示器的製作方法
統寶光電股份有限公司
案號 0911335572002-11-15IPC H01L21/027
具不同透明圖案之多重微影曝光
台灣茂矽電子股份有限公司
案號 0911332912002-11-13IPC H01L21/027
調控曝光對準之疊對偏移的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911331872002-11-12IPC H01L21/027
半導體裝置中形成銅配線之方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0911330402002-11-11IPC H01L21/027
金氧半導體電晶體及其製作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911329282002-11-08IPC H01L21/02