IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
規律性圖案之曝光方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0911329482002-11-08IPC H01L21/027
基板顯影裝置
友達光電股份有限公司
案號 0911328192002-11-07IPC H01L21/027
電子光束曝光裝置
東京精密股份有限公司
案號 0911327712002-11-07IPC H01L21/027
使用犧牲氧化相關應用之硬光罩製程
高級微裝置公司
案號 0911327372002-11-07IPC H01L21/027
電子光束曝光裝置
東京精密股份有限公司
案號 0911327722002-11-07IPC H01L21/027
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911326872002-11-06IPC H01L21/027
曝光裝置之檢查方法，修正焦點位置之曝光方法及半導體裝置之製造方法
東芝記憶體股份有限公司
案號 0911326702002-11-06IPC H01L21/027
用於製造半導體元件的方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0911326622002-11-06IPC H01L21/027
微細圖案之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0911326012002-11-05IPC H01L21/027
用於半穿透半反射式液晶顯示器之薄膜電晶體面板及其製造方法
奇美電子股份有限公司
案號 0911329962002-11-05IPC H01L21/02
圖案微細化用被覆形成劑及使用該形成劑形成微細圖案的方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0911326032002-11-05IPC H01L21/027
罩之彎曲補正方法及具備彎曲補正機構的曝光裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0911324992002-11-04IPC H01L21/027
曝光方法及曝光裝置
東芝股份有限公司
案號 0911323822002-11-01IPC H01L21/027
顯影裝置
東京應化工業股份有限公司
案號 0911323142002-10-31IPC H01L21/027
薄膜橫向覆矽絕緣層電源裝置
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0911322572002-10-31IPC H01L21/02
形成圖案化金屬層之方法
佳康控股有限公司
案號 0911321052002-10-29IPC H01L21/02
成像特性測量方法、曝光方法、曝光裝置及其調整方法、元件製造方法、以及記錄媒體
尼康股份有限公司
案號 0921169192002-02-08IPC H01L21/027
曝光方法及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921169202002-02-08IPC H01L21/027
曝光方法、曝光裝置、元件製造方法及記錄媒體
尼康股份有限公司
案號 0921169182002-02-08IPC H01L21/027
金屬遮罩在ＩＣ製程之應用方法
帆宣系統科技股份有限公司
案號 0921070142001-09-12IPC H01L21/027