IPC H01L21/30 專利列表
共 510 筆結果
基板清洗方法
奇美電子股份有限公司
案號 0921087472003-04-15IPC H01L21/302
電漿增強半導體晶圓處理室中用以路由電漿之諧波至接地之方法與設備
應用材料股份有限公司
案號 0921087422003-04-15IPC H01L21/3065
晶圓保持體及半導體製造裝置
住友電氣工業股份有限公司
案號 0921086532003-04-15IPC H01L21/30
液處理裝置及液處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921085692003-04-14IPC H01L21/304
電拋光及電鍍方法
ＡＣＭ研究股份有限公司
案號 0921084522003-04-11IPC H01L21/302
用於電漿反應室而具有減少金屬雜質濃度之矽部件
藍姆研究公司
案號 0921083822003-04-11IPC H01L21/306
蝕刻方法
ＰＳ４盧克斯科公司
案號 0921082972003-04-11IPC H01L21/3065
金屬圖案撕去設備除去金屬碎片之裝置及方法
弘塑科技股份有限公司
案號 0921083212003-04-10IPC H01L21/30
單晶圓旋轉蝕刻清洗機台之流體收集裝置
弘塑科技股份有限公司
案號 0921083222003-04-10IPC H01L21/306
濕蝕刻裝置
統寶光電股份有限公司
案號 0921082142003-04-10IPC H01L21/306
電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921081302003-04-09IPC H01L21/3065
金屬特徵表面之電化學平坦化
任色勒工業技術學院
案號 0921080732003-04-09IPC H01L21/304
電漿蝕刻之方法及裝置
技鼎股份有限公司
案號 0921079492003-04-08IPC H01L21/3065
電漿蝕刻方法
日商東京威力科創股份有限公司
案號 0921079012003-04-07IPC H01L21/3065
電漿蝕刻方法及電漿蝕刻裝置
日商東京威力科創股份有限公司
案號 0921079092003-04-07IPC H01L21/3065
使用功能水的光阻劑除去方法及其裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0921079022003-04-07IPC H01L21/304
電漿處理系統
能多順股份有限公司
案號 0921077502003-04-04IPC H01L21/3065
移除光阻及蝕刻殘餘物之方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921076182003-04-03IPC H01L21/3065
蝕刻導通孔之改良方法
尤那西斯美國公司
案號 0921075942003-04-03IPC H01L21/3065
半導體製造裝置
新川股份有限公司
案號 0921075922003-04-03IPC H01L21/30