IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
曝光裝置及方法
佳能股份有限公司
案號 0921065302003-03-24IPC H01L21/027
可堆疊電路互連用大型線傳導墊
惠普研發公司
案號 0921063762003-03-21IPC H01L21/027
一種光罩傳送支撐座及光罩傳送方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921064072003-03-21IPC H01L21/027
曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921062842003-03-21IPC H01L21/027
光罩資料處理器
瑞薩電子股份有限公司
案號 0921062822003-03-21IPC H01L21/027
晶圓曝光方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921058822003-03-18IPC H01L21/027
彩色濾光片之製作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921058332003-03-17IPC H01L21/02
形成光阻圖案之方法
奇美電子股份有限公司
案號 0921057802003-03-17IPC H01L21/027
使用聚焦離子束之化學汽相沈積的光罩圖案化
中芯國際集成電路製造（上海）有限公司
案號 0921055152003-03-13IPC H01L21/027
與狀態及控制設備作互動的方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921053672003-03-12IPC H01L21/02
雙層光阻的形成方法以及其應用
旺宏電子股份有限公司
案號 0921053402003-03-12IPC H01L21/027
避免晶圓於暫存區因弧光效應產生破壞的方法及系統
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921053432003-03-12IPC H01L21/027
具有金屬氮化物電極材料之金屬－絕緣體－金屬電容器及其形成方法
美光科技公司
案號 0921052152003-03-11IPC H01L21/02
有機元件、形成具有分子排列之有機半導體層的方法、以及形成有機元件的方法
財團法人工業技術研究院
案號 0921051722003-03-11IPC H01L21/027
雙層光阻製程
旺宏電子股份有限公司
案號 0921049962003-03-07IPC H01L21/027
微影系統中反應負荷的管理方法，系統及設備
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921048342003-03-06IPC H01L21/027
製程參數決定方法、以及決定製程參數與設計規則中至少一者之方法
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921048022003-03-06IPC H01L21/027
最小線寬不均勻性的改善方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921047252003-03-05IPC H01L21/027
微影圖案縮小製造方法及物件
布瑞沃科學公司
案號 0921046642003-03-05IPC H01L21/027
半導體裝置之製造方法及半導體裝置之製造裝置
東芝股份有限公司
案號 0921045322003-03-04IPC H01L21/027