IPC H01L21/3065 專利列表
共 120 筆結果
結構釋放結構及其製造方法
高通微機電系統科技公司
案號 0921141902003-05-26IPC H01L21/3065
乾蝕刻之蝕刻氣體及方法
億恆科技股份公司
案號 0921132622003-05-15IPC H01L21/3065
電感耦合電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921131262003-05-14IPC H01L21/3065
電漿處理裝置及電漿處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921131112003-05-14IPC H01L21/3065
於含矽介電材料中蝕刻一溝渠之方法
應用材料股份有限公司
案號 0921127342003-05-09IPC H01L21/3065
於電漿加工處理室中用於使發弧現象減低至最小程度之裝置與方法
泛林股份有限公司
案號 0921120832003-05-02IPC H01L21/3065
於高密度電漿處理室內蝕刻相對於氧化物具有高選擇性之氮化矽間隙壁之方法
應用材料股份有限公司
案號 0921120512003-05-01IPC H01L21/3065
電漿增強半導體晶圓處理室中用以路由電漿之諧波至接地之方法與設備
應用材料股份有限公司
案號 0921087422003-04-15IPC H01L21/3065
蝕刻方法
ＰＳ４盧克斯科公司
案號 0921082972003-04-11IPC H01L21/3065
電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921081302003-04-09IPC H01L21/3065
電漿蝕刻之方法及裝置
技鼎股份有限公司
案號 0921079492003-04-08IPC H01L21/3065
電漿蝕刻方法
日商東京威力科創股份有限公司
案號 0921079012003-04-07IPC H01L21/3065
電漿蝕刻方法及電漿蝕刻裝置
日商東京威力科創股份有限公司
案號 0921079092003-04-07IPC H01L21/3065
電漿處理系統
能多順股份有限公司
案號 0921077502003-04-04IPC H01L21/3065
移除光阻及蝕刻殘餘物之方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921076182003-04-03IPC H01L21/3065
蝕刻導通孔之改良方法
尤那西斯美國公司
案號 0921075942003-04-03IPC H01L21/3065
電漿處理反應器
聯華電子股份有限公司
案號 0921074892003-04-02IPC H01L21/3065
蝕刻方法
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921072872003-03-31IPC H01L21/3065
微溝構造之形成方法
日本板硝子股份有限公司
案號 0921067612003-03-26IPC H01L21/3065
電漿處理裝置用電極及電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921068352003-03-26IPC H01L21/3065