IPC H01L21/30 專利列表
共 510 筆結果
磁控管電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921168622003-06-20IPC H01L21/3065
碟形物件之濕處理裝置
蘭研究公司
案號 0921168032003-06-20IPC H01L21/306
使用雷射切割製程切割半導體晶圓之方法
三星電機股份有限公司
案號 0921164632003-06-17IPC H01L21/304
半導體銅製程整合極低介電常數材料之拋光方法
國家中山科學研究院
案號 0921164792003-06-17IPC H01L21/304
機械加工矽晶圓的方法
新光電氣工業股份有限公司
案號 0921164002003-06-17IPC H01L21/304
研磨半導體積體電路之有機絕緣膜的方法
清美化學股份有限公司
案號 0921180232003-06-13IPC H01L21/304
半導體晶圓
信越半導體股份有限公司
案號 0921160012003-06-12IPC H01L21/304
具有低電阻值之自行對準矽化物結構及製程方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921160102003-06-12IPC H01L21/306
電漿處理反應器與乾式蝕刻製程
茂德科技股份有限公司
案號 0921159532003-06-12IPC H01L21/3065
局部為薄膜之攜載頭
蘭姆研究公司
案號 0921158422003-06-11IPC H01L21/304
微粒生成器
巴特爾紀念機構
案號 0921158162003-06-11IPC H01L21/302
電子裝置之製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921156572003-06-10IPC H01L21/3065
放電電漿處理系統
愛發科股份有限公司
案號 0921157462003-06-10IPC H01L21/306
晶圓之製造方法及粘膠帶
古河電氣工業股份有限公司
案號 0921154792003-06-09IPC H01L21/304
乾蝕刻過程中偵知終點之方法
半導體系統整合股份有限公司
案號 0921156042003-06-09IPC H01L21/3065
可減少矽流失之去除光阻的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921155892003-06-09IPC H01L21/3065
半導體顯影設備之晶圓清洗裝置及其操作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921155042003-06-09IPC H01L21/304
金屬研磨組合物、使用該組合物之研磨方法、以及利用該研磨方法之晶圓製造方法
昭和電工股份有限公司
案號 0921153432003-06-06IPC H01L21/304
清洗基底上表面之殘餘物的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921150232003-06-03IPC H01L21/302
用於電漿蝕刻反應器之陰極承載座
應用材料股份有限公司
案號 0921151392003-06-03IPC H01L21/3065