IPC H01L21/66 專利列表
共 250 筆結果
缺陷分析抽樣控制系統及方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921251462003-09-12IPC H01L21/66
減少在晶圓級的晶片測試之方案
恩智浦股份有限公司
案號 0921250452003-09-10IPC H01L21/66
附加電子組件的方法及電子組件附加工具
索思未來股份有限公司
案號 0921248922003-09-09IPC H01L21/66
積體電路佈線檢查方法（三）
瑞昱半導體股份有限公司
案號 0921246942003-09-08IPC H01L21/66
積體電路佈線檢查方法（二）
瑞昱半導體股份有限公司
案號 0921246912003-09-08IPC H01L21/66
積體電路佈線檢查方法（一）
瑞昱半導體股份有限公司
案號 0921246902003-09-08IPC H01L21/66
製程最佳化的方法與動態製程裕度檢查法
茂德科技股份有限公司
案號 0921244282003-09-04IPC H01L21/66
一種缺陷原因分析的方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921243932003-09-03IPC H01L21/66
一種缺陷再檢測的方法
力晶半導體股份有限公司
案號 0921243922003-09-03IPC H01L21/66
垂直電晶體之閘極氧化層厚度的量測方式及量測裝置
南亞科技股份有限公司
案號 0921241862003-09-02IPC H01L21/66
即時偵測在半導體製程中晶圓表面膜顏色異常的方法及其裝置
南亞科技股份有限公司
案號 0921238822003-08-29IPC H01L21/66
關鍵尺寸的內前饋式控制方法和系統
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921236962003-08-28IPC H01L21/66
一種管狀缺陷的檢測方式
力晶半導體股份有限公司
案號 0921238272003-08-28IPC H01L21/66
測試元件及其測試方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921236952003-08-28IPC H01L21/66
淺溝槽隔離區空隙檢測方法及其結構
南亞科技股份有限公司
案號 0921235072003-08-27IPC H01L21/66
半導體晶圓之不良率之分析系統與方法
茂德科技股份有限公司
案號 0921233812003-08-26IPC H01L21/66
半導體晶圓之檢查方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921229862003-08-21IPC H01L21/66
用於半導體裝置測試之探測器及其操作器
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921229202003-08-20IPC H01L21/66
薄膜厚度映射方法及裝置
超奈斯公司
案號 0921228332003-08-20IPC H01L21/66
用以執行即時電弧放電偵側之方法
應用材料股份有限公司
案號 0921226732003-08-18IPC H01L21/66