IPC H01L21/20 專利列表
共 229 筆結果
具有低缺陷密度之鬆弛的薄膜層之基底結構及其製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921295362003-10-24IPC H01L21/20
使用雷射之結晶膜之製造方法及結晶膜
住友重機械工業股份有限公司
案號 0921295982003-10-24IPC H01L21/20
填充間隙的方法與淺溝渠隔離結構的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921290932003-10-21IPC H01L21/205
結晶化裝置及結晶化方法
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921290592003-10-20IPC H01L21/20
薄膜形成裝置，薄膜形成方法及薄膜形成系統
石川島播磨重工業股份有限公司
案號 0921288072003-10-17IPC H01L21/205
用於半導體室中之氟熱啟動
ＢＯＣ集團公司
案號 0921288512003-10-17IPC H01L21/205
電子元件、其製造方法以及電漿處理裝置
夏普股份有限公司
案號 0921286982003-10-16IPC H01L21/205
一種應變鬆弛矽鍺磊晶層之製造方法及其結構
財團法人工業技術研究院
案號 0921287442003-10-16IPC H01L21/205
多晶矽結晶的控制方法
財團法人工業技術研究院
案號 0921284692003-10-14IPC H01L21/20
原子層沈積方法及原子層沈積工具
美光科技公司
案號 0921277842003-10-07IPC H01L21/205
膜厚改變之控制方法及其控制系統
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921272712003-10-02IPC H01L21/20
發熱體化學氣相沉積裝置、及發熱體化學氣相沉積裝置的發熱體與電力供給機構之間的連接構造
安內華股份有限公司
案號 0921272022003-10-01IPC H01L21/205
晶圓遮蔽裝置
崇越科技股份有限公司
案號 0921272312003-10-01IPC H01L21/20
環形微結構元件之製造方法
億恆科技股份公司
案號 0921271222003-09-30IPC H01L21/20
電熱膜的製造方法
和立聯合科技股份有限公司
案號 0921269372003-09-30IPC H01L21/20
用以形成磊晶層之方法及裝置
恩智浦股份有限公司
案號 0921270212003-09-30IPC H01L21/205
半導體裝置之製造方法
聯晶半導體股份有限公司
案號 0921266702003-09-26IPC H01L21/205
一種反應器
統寶光電股份有限公司
案號 0921265332003-09-25IPC H01L21/205
使用多層氧氮化矽之硬遮罩
高級微裝置公司
案號 0921258702003-09-19IPC H01L21/205
蝕刻設備之報廢遮蔽環回收再利用的方法
崇越科技股份有限公司
案號 0921257772003-09-18IPC H01L21/205